瘋子有位朋友,也是在專利事務所當 IF,而他最近跟瘋子說:他發現有件從英文翻譯成中文的專利說明書,翻的實在是!@$#%....
在那件中譯的說明書中,裡面有很多中文字詞不僅翻的讓IF看的很痛苦,而且恐怕連相關產業的工作者也會看的霧剎剎~
光這樣講,可能大家無法具體了解,因此,瘋子就根據那位朋友所述,舉例說明一下:
1. mask 翻成「掩膜」,嗯......好像沒什麼錯誤吧!但是 half tone mask 翻成「半色調掩膜」!這聽起來,有點怪怪的~
2. 好吧!上面那個第1個例子就算了!但這裡的第2個例子就真的實在不應該了!
slit 或許有「槽」的意思。可是,把 slit mask 翻成「槽式掩膜」!這..不得不讓瘋子覺得:這翻的實在太瞎了!
這位辛苦翻譯的人,他的「逐字翻譯」或許正確,像是:mask 是有「掩膜」的意思,而 slit 也有「槽」的意思。但是,當slit 與 mask 結合,變成 slit mask 時,說「 slit mask 」是「槽式掩膜」?這...別說一般人看不懂,就連理工學院的教授,以及在半導體或光電產業中工作的人,我相信絕對沒有人知道:甚麼是「槽式掩膜」?
瘋子不否認:做翻譯工作的人,外語能力要很好,但是,看到這個案例,瘋子認為:在翻譯專利說明書或其他科技知識的相關文章時,不僅要有很好的外語能力,同時也要具備科技上的專業知識。否則,光有優異的外語能力,而欠缺專業的科技知識,就會像上面那個例子:單獨看每個英文單字都翻對了,但整個中文字詞的意思卻失真了~
特別說明:(瘋子寫錯的話,請多指教)
half tone mask 正確名稱應該是「半調式光罩」,是一種具有「半透光區(顧名思義,就是:有點透光,又不太透光的區域)」的光罩。slit mask 應該是「狹縫光罩」,是一種利用光狹縫繞射原理的光罩。上述這二種光罩常使用於半導體或光電產業,所以一些在科學園區工作的人,應該對這二種光罩不會很陌生。

這讓我想到以前公司為了英文化 規定所有文件全要翻成中英對照 但大家也都還有他工作要做 所以公司就很善意的幫我們尋求了翻譯社來解決問題 可是一般翻譯社的員工多是外文系畢業的 幾乎都沒有半導體廠工作的經驗 所以就發生了像上面一樣的狀況 當然我們也不忍苛責翻譯社 所以最後就是工作接回來自己慢慢翻
這感覺好像又加重員工的 loading ~~~
掩膜(模)是大陸用語 最近幾年很多國外客戶開始直接拿在大陸翻譯, 申請的說明書來台灣順便申請專利 基本上大陸的翻譯比台灣好又便宜 當然 對台灣的事務所來說 最肥的翻譯費也賺不到了 不過大陸偶爾也會翻錯
喔喔喔.... 對岸同胞稱光罩叫掩膜.... 這可是重要的消息 先感謝賽門兄 瘋子可要好好記下~~
精確的說是 mask 範圍比 photomask 大
不過,這又有一個問題? mask跟photomask差別在哪裡? 是結構不同? 還是,只是用途不同? 如果這二者同樣都用在半導體的黃光技術,那對半導體技術人員來說,這二個是同樣的東西嗎? (老實說,我沒待過黃光,也沒寫過光罩的案子,所以我也不知道這二個實際的差別~~)
mask 遮罩 可指直接形成在待處理物品上, 用來保護想保護的部分, 在這方面就像Resist(阻劑) 例如 dry or wet etching時使用經圖案化的hard mask來保護不想被蝕刻的部分 implanting時 讓掺雜物只植入特定區域, 常見於形成Source or Drain 當然也可指獨立個體的罩子, 而不是形成在待處理物品上, 在這方面就像photomask, 只不過photomask 光罩望文生義就只是專用來擋光而且是和待處理對象分開的 如printing process 要在待處理對象上塗布出特定圖案的paste(例如 框膠) 時 就會用一個形成有該特定圖案的mask (或稱screen) 罩在上面, 把paste從mask的一端刮到另一端 paste便會從mask的鏤空部分掉落到下面的對象物上而完成將paste印刷至對象物 這種mask就不能稱為photomask mask vs photomask 就像 resist vs photoresist 多加字就是多加限制
所以,你的意思是說:mask可以擴大解釋成"光阻層"喔~~ 這樣解釋也是可以啦~ 不過,基於明確的原則 (詳情請看專利審查基準第二篇第一章,1.4.1.1明確,以及1.4.4其他注意事項) 我是不會貿然把"mask"拿來當"resist"用 除非確定發明技術領域的人都是這麼用。 另外,我知道你所謂"多加字就是多加限制"的意思 沒錯,一般原則是這樣~~ 但有的時候還是要考量到不同的技術領域。 例如:在微影技術中所使用的mask,我想:一般技術人員應該還是會把mask當成photomask,不太會把它想成是photoresist吧!(有錯的話,歡迎來糾正~~)